文件名称：论文研究-干刻蚀对于不同负载效应造成选择比差异导致的缺陷分析与解决方案 .pdf
文件大小：485KB
文件格式：PDF
更新时间：2022-09-12 03:59:25
半导*造
干刻蚀对于不同负载效应造成选择比差异导致的缺陷分析与解决方案，赵弘鑫，程秀兰，在半导*造工艺的干法刻蚀（Dry Etching）中，对于刻蚀薄膜表面面积大小的差异性会造成负载效应（Loading effect）。然而这种负载效应��
论文研究-干刻蚀对于不同负载效应造成选择比差异导致的缺陷分析与解决方案 .pdf
【文件属性】：