文件名称：低反射率多晶硅绒面的湿法制备研究* (2013年)
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更新时间：2024-06-12 17:38:14
工程技术 论文
在多晶硅太阳电池制备工艺中，多晶硅表面制绒一直是研究热点，绒面的反射率以及形貌受到多个因素的影响。采用由HF，HNO3和H2O组成的腐蚀液对多晶硅进行腐蚀，研究了腐蚀时间，腐蚀液中HF与HNO3的体积比以及H2O在腐蚀液中的含量对制绒结果的影响。用分光光度计测量了制备绒面的反射率，并用扫描电镜观察了制备绒面的表面形貌。研究结果表明，腐蚀液中HF，HNO3和H2O的体积比对腐蚀坑的形貌有重要影响，而腐蚀坑形貌则决定了绒面反射率的高低。当腐蚀液中HF：HNO3：H2O体积比为5：1：2且腐蚀时间为3 min时