磁流变抛光光学非球面元件表面误差的评价 (2004年)

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文件名称：磁流变抛光光学非球面元件表面误差的评价 (2004年)
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更新时间：2021-05-10 19:33:13
自然科学 论文 正确评价抛光后光学非球面元件表面面形的波前畸变是确保实现光学非球面元件超精密制造的关键。该文提出了结合功率谱密度法和残余误差法并考虑非球面元件表面中频误差的综合评价方法。将提出的综合评价标准应用到磁流变数控抛光过程中,进一步明确了表面残余误差与抛光工艺参数之间的关系,建立了有效消除表面残余误差的抛光工艺规范。按照这一工艺规范制造出一块抛物面光学反射镜,其面形精度达到λ/30(λ= 0.632 8μm),残余误差为 3λ/1000。该方法可为深入开展高精度磁流变抛光技术研究提供参考。