磁流变抛光超光滑光学表面 (2005年)

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文件名称：磁流变抛光超光滑光学表面 (2005年)
文件大小：1.45MB
文件格式：PDF
更新时间：2021-05-20 12:43:14
自然科学 论文 研究了利用初始粘度达到0.5Pa?s、具有相对大范围稳定性的标准磁流变抛光液，并结合设计独特的公自转组合运动永磁抛光轮进行了试验，对抛光过程中的主要参量包括抛光轮与工件之间间隙、抛光轮与工件之间相对运动速度、氧化铈浓度及抛光时间对材料去除特性的影响进行了研究。磁流变抛光对工件（K9玻璃）表面粗糙度提高效果的抛光试验结果证明，该套系统具有良好的抛光特性，抛光28min后工件表面粗糙度由最初的10.98nm收敛到0.6315nm，获得了超光滑量级的抛光表面。