文件名称：氩环境气压对激光烧蚀沉积纳米硅薄膜形貌的影响 (2005年)
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更新时间：2024-05-11 20:58:07
自然科学 论文
采用脉冲激光烧蚀技术在氩气环境下制备了纳米硅薄膜,研究了环境气体压强对纳米硅薄膜表面形貌的影响。结果表明,当环境气压小于50 Pa时,薄膜表现为常规的量子点镶嵌结构;当环境气压大于 50 Pa时,薄膜中出现类网状的絮结构,继续增大氩气压,絮结构逐渐增大,且其隙度增大。指出该现象与在激光烧蚀过程中纳米硅团簇的形成过程有关。