LY12铝合金表面电化学沉积制备DTMS硅烷膜及其耐蚀性研究 (2006年)

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文件名称：LY12铝合金表面电化学沉积制备DTMS硅烷膜及其耐蚀性研究 (2006年)
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更新时间：2021-04-29 06:30:00
自然科学 论文 采用电化学技术在LY12铝合金表面沉积制备了十二烷基三甲氧基硅烷（DTMS）膜。反射吸收红外光谱表明，DTMS硅烷试剂与铝合金基体表面发生了化学键合作用，生成—SiOAl键实现成膜。通过对膜覆盖电极在质量分数为3.5%的NaCl溶液中的电化学阻抗谱（EIS）测试结果表明，与开路电位下相比，采用阴极电位沉积方法得到硅烷膜的耐蚀性能有明显提高，且存在一个最佳“临界电位”，在此电位下沉积得到的硅烷膜具有最高的耐蚀性。扫描电镜观察结果表明，在“临界电位”下制备得到的硅烷膜的结构最致密。给出了硅烷膜覆盖电极的阻抗模