纳米级FeNi粉体/SiR薄膜的制备及力敏特性研究U+2217 (2015年)

时间:2024-06-10 00:45:29
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文件名称:纳米级FeNi粉体/SiR薄膜的制备及力敏特性研究U+2217 (2015年)

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更新时间:2024-06-10 00:45:29

工程技术 论文

以 60~100 nm 的 FeNi 粉体为应力敏感元、硅橡胶为柔性基体,压制成型了粉体分布均匀、粉体含量30.6%(质量分数)、厚度 200μm 的薄膜,在连续加载/卸载速度为0.1 mm/min、测试频率 1 kHz 条件下,研究了正应力和综合应力两种受力条件下薄膜的力敏特性。研究结果表明,通过过渡溶剂液相混合方法可实现纳米级FeNi粉体在薄膜中均匀分布;在正应力条件下,加载过程中σ<0>50,当σ为 0.2~0.4 MPa,|k|值介于 37~49 之间,


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