文件名称：氮离子辅助沉积的羟基磷灰石膜的结构与电化学特性 (2000年)
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更新时间：2024-05-14 08:57:59
自然科学 论文
通过用XRD，FTIR，EDAx和XPS等，对60keV的N离子束在钛合金表面辅助沉积的羟基磷灰石薄膜（HA）表征发现，膜呈非晶结构，膜中Ca/P比高达2.46，远高于HA原材料Ca/P比的数值1.67，沉积中出现c和O的污染，膜中引入了碳酸根基团CO23-，并产生了羟基（OH）的丢失.与已有的实验结果不同，实验中发现，这种N离子束辅助沉积的薄膜在Hanks溶液中的抗溶解特性，不是退火试样最好而是未退火状态的膜比前者更优。但它们二者的抗溶解特性又都比钛合金本身强。作者对所观察到的这种新现象作了讨论。