高纯铝的电化学抛光工艺研究 (2008年)

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文件名称：高纯铝的电化学抛光工艺研究 (2008年)

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更新时间：2024-05-28 16:05:15

自然科学 论文

本文研究了高氯酸/乙醇抛光液体系在15V安全电压下高纯铝的抛光工艺以及抛光过程的电流密度，并对"暗色膜"现象进行了解释，对抛光电极间距、操作温度对抛光效果的影响进行探讨，得出最佳抛光工艺：电极间距7～8cm，操作温度10～15℃，电流密度0.7～0.8A/m2，抛光时间3min。