文件名称：高纯铝片抛光工艺及对氧化铝模板的影响 (2011年)
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更新时间：2024-06-05 01:53:49
自然科学 论文
在多孔阳极氧化铝(Porous anodic alumina，PAA)制备过程中，为了得到更稳定的电解过程，实现高度有序的纳米孔阵列结构，对高纯铝片表面进行抛光是一个典型的、必要的步骤。为此系统研究了高氯酸/乙醇抛光液体系在不同电压(1，5，10，20V和25V)和不同时间(10，60s和180s)下的抛光工艺，以及抛光对高纯铝片表面以及PAA的影响，获得用于制备 PAA模板较合适的抛光工艺，即抛光电压为10V，抛光时间为l80s。