文件名称：纳米磨料硬度对超光滑表面抛光粗糙度的影响 (2005年)
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更新时间：2024-06-12 16:17:17
工程技术 论文
通过均相沉淀法制备了纳米Ce02和A1203粉体,研究了在相同抛光条件下纳米Ce02,Al203和Si0z磨料对硅片的抛光效果,用原子力显微镜观察了抛光表面的微观形貌并测量其表面粗糙度。结果表明:纳米Ce0z磨料抛光后表面具有更低的表面粗糙度,在5Pmx5um范围内表面粗糙度Ra值为0.240nm,而且表面的微观起伏更趋向于平缓;考虑了纳米磨料在抛光条件下所发生的自身变形,其变形量相当于一部分抵消了纳米磨料嵌入基体材料的切削深度,而这个切削深度最终决定了抛光表面的粗糙度;分析指出这个变形量与纳米磨料的硬度