AIGaN/GaN HEMT研制及特性分析 (2005年)

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文件名称:AIGaN/GaN HEMT研制及特性分析 (2005年)

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更新时间:2024-06-05 13:24:06

自然科学 论文

以蓝宝石为衬底研制出栅长1μmAlGaN/GaN HEMT。在室温下,测试该器件显示出良好的输出特性和肖特基伏安特性,最大跨导160mS/mm,栅压1V下饱和电流720mA/mm,击穿电压大于50V。分析了几个关键工艺对器件特性的影响,指出较大的欧姆接触电阻(3.19Ω·mm)限制了器件性能进一步提高,需提高肖特基接触的势垒高度。


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