文件名称:SOI MOSFET寄生双极晶体管效应的研究 (2004年)
文件大小:193KB
文件格式:PDF
更新时间:2024-05-28 20:22:17
工程技术 论文
研究了硅膜掺杂浓度、厚度和硅化物厚度等工艺条件对SOI MOSFET寄生双极晶体管增益的影响。提高体区掺杂浓度、增加硅膜和硅化物厚度能够减小增益。原因是:①基区杂质浓度增加,减弱了发射极向基区注入多子,增强了基区向发射区的少子注入;②增加硅化物厚度会增加其横向扩展,减小发射极的注入效率。
文件名称:SOI MOSFET寄生双极晶体管效应的研究 (2004年)
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工程技术 论文
研究了硅膜掺杂浓度、厚度和硅化物厚度等工艺条件对SOI MOSFET寄生双极晶体管增益的影响。提高体区掺杂浓度、增加硅膜和硅化物厚度能够减小增益。原因是:①基区杂质浓度增加,减弱了发射极向基区注入多子,增强了基区向发射区的少子注入;②增加硅化物厚度会增加其横向扩展,减小发射极的注入效率。