SOI MOSFET寄生双极晶体管效应的研究 (2004年)

时间:2024-05-28 20:22:17
【文件属性】:

文件名称:SOI MOSFET寄生双极晶体管效应的研究 (2004年)

文件大小:193KB

文件格式:PDF

更新时间:2024-05-28 20:22:17

工程技术 论文

研究了硅膜掺杂浓度、厚度和硅化物厚度等工艺条件对SOI MOSFET寄生双极晶体管增益的影响。提高体区掺杂浓度、增加硅膜和硅化物厚度能够减小增益。原因是:①基区杂质浓度增加,减弱了发射极向基区注入多子,增强了基区向发射区的少子注入;②增加硅化物厚度会增加其横向扩展,减小发射极的注入效率。


网友评论