文件名称：铌基合金包埋渗法制备抗氧化硅化物涂层及其组织形成 (2007年)
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更新时间：2024-06-12 16:27:36
工程技术 论文
利用包埋渗法在铌基合金上制备抗氧化硅化物涂层，渗硅温度分别为1050、1150和1250℃，渗硅时间分别为2、5、10、15和20h。利用SEM、EDS和XRD等检测手段分析涂层的结构、元素分布及相组成等，并对涂层形成的反应机理及反应动力学进行讨论。结果表明：涂层的相组成为（NB，X）Si2（X表示Ti，Cr，Hf和Al等元素）；涂层具有双层结构，且上层较为致密；涂层与基体之间达到了冶金结合，通过扩散形成过渡层及互扩散区；在包埋渗温度分别为1050、1150和1250℃时，涂层生长的动力学曲线均符合抛物线