铌硅化物基合金Si.Y203共渗涂层的组织形成 (2009年)

时间:2021-05-20 07:17:03
【文件属性】:
文件名称:铌硅化物基合金Si.Y203共渗涂层的组织形成 (2009年)
文件大小:516KB
文件格式:PDF
更新时间:2021-05-20 07:17:03
工程技术 论文 采用Si-Y2O3包埋共渗工艺在铌硅化物基超高温合金表面制备Y改性的硅化物涂层,共渗温度分别为1050、1150和1250℃,共渗时间分别为5、10、15和20h。利用SEM、EDS和XRD等方法分析涂层的结构、元素分布及相组成,并对涂层形成机理及Y203催渗机理进行讨论。结果表明:涂层具有明显分层的结构,由外至内依次为(Nb,X)Si2(x表示Ti、Hf和Cr)外层和(Nb,S)5Si3过渡层,在过渡层与基体之间有一些不连续分布的细小(CLAl)2(Nb, Ti)块状沉淀;Y在涂层中的分布不均匀,在(C

网友评论