模板诱导 /均相沉淀法制备碳羟磷灰石晶须 (2009年)

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文件名称：模板诱导 /均相沉淀法制备碳羟磷灰石晶须 (2009年)
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更新时间：2021-06-19 00:36:08
工程技术 论文 为了在温度、压力要求都比较低的情况下获得 CHAp晶须,以磷酸二氢铵和硝酸钙为原料,配制均相混合溶液,再采用山梨醇作为模板剂最后制得 CHAp晶须,并通过 XRD、FT-IR、SEM对产物进行了表征分析。 结果表明,在95℃反应10 h得到端面直径1.25μm、长 12. 5μm的 CHAp晶须。