金属等离子体浸没离子注入技术合成NbN膜* (2000年)

【文件属性】：

文件名称：金属等离子体浸没离子注入技术合成NbN膜* (2000年)

文件大小：156KB

文件格式：PDF

更新时间：2024-05-28 15:25:51

自然科学 论文

利用无大颗粒的金属等离子体浸没增强沉积技术，在Si基体上进行动态离子束增强沉积NbN，在低温下制成了NbN薄膜。薄膜表面细密光滑，退火前其硬度>16.8MN·mm-2，退火后硬度>16.0MN·mm-2。