金属等离子体浸没离子注入技术合成NbN膜* (2000年)

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文件名称：金属等离子体浸没离子注入技术合成NbN膜* (2000年)
文件大小：156KB
文件格式：PDF
更新时间：2021-05-08 21:39:11
自然科学 论文 利用无大颗粒的金属等离子体浸没增强沉积技术，在Si基体上进行动态离子束增强沉积NbN，在低温下制成了NbN薄膜。薄膜表面细密光滑，退火前其硬度>16.8MN·mm-2，退火后硬度>16.0MN·mm-2。