文件名称：光罩清洗的流程以及优化
文件大小：138KB
文件格式：DOCX
更新时间：2024-01-19 05:41:26
湿法清洗设备
摘 要：光罩清洗的流程以及优化，需要在实际生产运用中来完善，要保证在不影响清洗能力的情况下来优化各个工艺参数，在各种工艺清洗时的时间和MASKStage的转速来缩短清洗光罩的时间，而这个参数需要在不断地实验中完善。该文针对目前液晶面板在正常生产的过程中光罩（MASK）日常清洗的流程及工艺，介绍了目前光罩清洗机中使用的几种主要的清洗工艺，清洗光罩时需根据不同原因来选择所需要的工艺来清洗，以及对清洗工艺的优化。