稳恒磁场下Ni-w合金镀膜的制备与耐蚀性 (2006年)

时间:2024-07-01 15:26:43
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文件名称:稳恒磁场下Ni-w合金镀膜的制备与耐蚀性 (2006年)

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更新时间:2024-07-01 15:26:43

工程技术 论文

研究了施加稳恒磁场(0-1T)对电镀NrW合金的影响。测定不同方向、不同强度稳恒磁场下的电流效率、合金组成及镀层的耐蚀性,并用扫描电镜和X射线衍射对镀层的微观形貌及结构进行了观察和分析。对实验结果进行了分析讨论,找出稳恒磁场对这些性能指标的影响规律。结果表明:与不施加磁场相比,施加磁场后镀层的表面更均匀、细致、平整;镀层的含钨量上升:当B⊥J,B=1.OT时,含钨量上升了约7%;当B〃J,B= 1. OT时,含钨量上升了约9%;镀膜的非晶化程度增强;镀膜的耐蚀性提高;但Ni-W合金电镀的电流效率降低。


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