文件名称：反应溅射Nb-Si-N薄膜的微结构与力学性能 (2006年)
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更新时间：2024-06-01 21:19:08
自然科学 论文
在Ar、N2和SiH4混合气体中，通过反应磁控溅射方法制备了一系列不同Si含量的Nb-si-N复合薄膜，采用EDs、xRD、TEM、AFM和微力学探针表征了复合薄膜的成分、相组成、微结构和力学性能。结果表明，采用反应磁控溅射技术通过控制混合气体中SiH4分压可以方便地获得不同Si含量的Nb-Si-N薄膜。少量Si的加入使薄膜得到强化，并在si含量为3.4%时达到硬度和弹性模量的最高值，分别为53GPa和521GPa。进一步增加Si含量，薄膜的硬度和弹性模量逐步降低。Nb-Si-N薄膜力学性能的提高与其晶体