超疏水CF4等离子体改性PVDF膜及其DCMD性能 (2012年)

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文件名称：超疏水CF4等离子体改性PVDF膜及其DCMD性能 (2012年)
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更新时间：2021-04-26 01:30:06
自然科学 论文 采用低温CF4等离子体技术，通过化学气相沉积，将一般疏水聚偏氟乙烯(PVDF)膜表面成功改性为接触角为169．5°±4．9°的超疏水表面，研究改性后的超疏水膜的直接接触式膜蒸馏(DCMD)过程。结果表明：当进料液为4％的NaCl溶液时，高温侧温度70．5℃，改性膜通量为26．5 kg／(m2・h)，截留率高达99．976 6％。