论文研究-化学机械研磨对硅片表面Haze值的影响 .pdf

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更新时间：2022-09-04 08:29:09

化学机械研磨

化学机械研磨对硅片表面Haze值的影响，林佳佳，，化学机械研磨是当今唯一能够提供全局平坦化的技术，其抛光机理的研究是当前的热点。硅片表面Haze值是描述硅片表面粗糙度的一个重��