文件名称：退火对nc-Si镶嵌复合薄膜结构及发光特性的影响 (2005年)
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更新时间：2024-06-13 22:49:07
工程技术 论文
采用减压化学气相沉积方法，依靠纯N2稀释的Sill4气体的热分解反应，在玻璃表面生长了纳米硅镶嵌的复合薄膜。实验研究了退火前后薄膜样品的结晶状态和光致发光特性。结果表明，未退火样品的光致发光特性随沉积温度升高反而减弱。当退火温度>600 C时，晶化趋势明显；当退火温度<600 C时，对晶化的影响不显著，但提高退火温度或延长退火时间可以增加光致发光谱（PL）强度。通过HRTEM分析证实了薄膜为纳米硅镶嵌复合的特殊结构。并通过Raman、PL、HRTEM的比较分析，认为在退火前后分别有两种不同的发光机制起主导