论文研究-基于Fab环境掩模版静电破坏影响因素的研究 .pdf

时间:2022-09-04 11:21:19
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更新时间:2022-09-04 11:21:19

集成电路制造

基于Fab环境掩模版静电破坏影响因素的研究,顾婷婷,,本文自主设计了一组测试图形并制作相应的测试用掩模版,用于研究掩模版静电破坏的影响因素。通过模拟测试得出Mask上ESD缺陷高风险��


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