用椭圆偏振光谱法研究取代基对酞菁薄膜光学常数的影响 (2009年)

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文件名称：用椭圆偏振光谱法研究取代基对酞菁薄膜光学常数的影响 (2009年)
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更新时间：2021-04-29 16:10:19
自然科学 论文 利用M-2000UI型宽光谱可变入射角椭偏仪研究十六氟铜酞菁(F16CuPc)和铜酞菁(CuPc)薄膜的光学性质。在248～1650nm使用逐点拟合的方法对测得椭偏光谱进行分析,获得两种薄膜的折射率、消光系数、复介电常数和吸收系数。讨论了外环氟取代基对酞菁光学性质的影响,结果表明,共轭酞菁大环上的外围取代基对薄膜的响应波长和非正常色散影响较大。分析了两种酞菁的电子结构及吸收谱成因,并由吸收边外推得到两种材料的光学禁带宽度(Eg)。