文件名称:光纤PCVD工艺等离子体有源区场的分析 (1996年)
文件大小:222KB
文件格式:PDF
更新时间:2024-05-29 11:59:48
自然科学 论文
对光纤PCVD(等离子体化学气相沉积)制造工艺的微波等离子体有源区的性质进行了分析,指出微波电场是使反应物电离的决定因素之一,而反应物电离后生成的带电微粒,又影响微波的传输,使微波传输线由原来的驻波状态变为行波状态。进而,对有源区的电子密度分布进行了分析,导出了光纤PCVD工艺有源区微波场满足的亥姆霍兹方程并进行了数值求解。结果表明:有源区微波场的分布是不均匀的,在等离子体柱中心最大,并与电子密度密切相关。