文件名称：晶体硅太阳电池减反射膜的研究 (2011年)
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更新时间：2024-05-31 12:50:32
工程技术 论文
为了提高晶体硅太阳能电池的光电转换效率，以及获得较佳的减反射膜的膜厚和折射率，根据计算得出的在波长为600nm的太阳光下减反射膜的膜厚和折射率的最佳理论值，设计了三组等离子体增强化学气相沉积工艺（1#，2#和3#工艺），来制备不同膜厚和折射率的SiNx:H（氮化硅）减反射膜。实验结果显示：1#工艺对应的膜厚为83nm，折射率为2.01；2#工艺对应的膜厚为75nm，折射率为2.01；3#工艺对应的膜厚为66nm，折射率为2.02。1#工艺对应电池片的转换效率为18.00%，2#工艺对应电池片的转换效率为1