MEMS器件真空回流焊接工艺研究 (2008年)

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更新时间:2024-05-11 13:20:57

自然科学 论文

选择80Au20Sn合金预制焊料,在多功能键合设备中研究了MEMS器件陶瓷外壳真空回流焊接工艺。通过多次工艺实验,获得了真空回流焊接工艺的优化参数:焊接温度为340~350℃,保温时间约5~10min,施加在每个焊接外壳上的压力约为60~80g。对封装外壳焊接质量进行了分析,并指出影响焊接质量的各种因数和获得良好焊接质量的方法。最后,将陶瓷外壳真空回流焊接工艺用于陀螺仪的真空封装,使陀螺仪的品质因子相对大气环境提高了15倍。


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