文件名称:台积电0.35毫米工艺详解.rar
文件大小:2.46MB
文件格式:RAR
更新时间:2022-08-12 13:27:26
嵌入式系统
处理技术 模式转换 光刻和蚀刻 层的增长 氧化和沉积 掺杂剂的介绍 扩散离子注入 技术模块 0.35毫米1P3M聚酰亚胺技术 过程特性 工艺流程 集成设备 设计规则
文件名称:台积电0.35毫米工艺详解.rar
文件大小:2.46MB
文件格式:RAR
更新时间:2022-08-12 13:27:26
嵌入式系统
处理技术 模式转换 光刻和蚀刻 层的增长 氧化和沉积 掺杂剂的介绍 扩散离子注入 技术模块 0.35毫米1P3M聚酰亚胺技术 过程特性 工艺流程 集成设备 设计规则