文件名称：BCD工艺概述
文件大小：188KB
文件格式：PDF
更新时间：2015-08-19 13:41:28
BCD 工艺
介绍了BCD (bipolar CMOS DMOS）的工艺原理、特点和发展前景。对BCD 工艺兼容性 进行了说明，着重阐述了L D M O S 的工艺原理和关键工艺设计考虑。文章结合应用，指出B C D 工艺朝着 高压、高功率、高密度三个主要方向分化发展，并对B C D 工艺的最新进展作了概述。对电源管理和显示 驱动这两大市场驱动进行了分析，并对国内企业进入该领域所面临的机会与挑战作了阐述与展望。