文件名称：基于红外光干涉技术的微纳结构内部三维形貌测量* (2011年)
文件大小：310KB
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更新时间：2024-05-29 11:32:46
工程技术 论文
基于红外光在半导体材料中的透射特性，将白光扫描干涉方法从可见光波段推广到红外光波段。设计研制了Linnik结构红外光干涉系统，对具有三层台阶结构的微器件进行了无损三维形貌测试。实验结果表明，采用红外光对半导体材料微纳结构透射后的反射干涉技术，可以准确实现微纳结构内部三维形貌测量。可实现百nm量级台阶高度的准确透射测试，纵向测量误差控制在5%以内。该方法可广泛应用于半导体微纳器件结构测量技术领域，实现半导体器件封装后的内部形貌测试、键合界面质量评估以及在线工艺检测等。