文件名称：重掺硅衬底材料中氧沉淀研究进展
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更新时间：2023-12-30 04:31:00
重掺硅衬底材料中氧沉淀研究进展 其它
张红娣，刘彩池(河北工业大学半导体材料研究所，天津 300130)摘要：对国内外在重掺硅中氧沉淀方面的研究做了综合阐述，对氧沉淀研究现状和存在问题进行了讨同时就热处理，掺杂剂对氧沉淀的影响做了浅析，使人们对重掺硅衬底中氧沉淀这一领域有更深的认识。关键词：重掺硅；氧沉淀；掺杂剂；退火中图分类号：TN305．3 文献标识码：A 文章编号：1003-353X(2004)06-0076-041 引言器件性能的提高，需要器件工艺的改善，另外还要有基础材料质量的保证。材料的发展更能促进器件发展的飞跃，而材料的性能又取决于其内部结构。半导体硅材料以丰富的资源、优质的特性、日臻完善的工艺以及广泛的用途等综合优