有序介孔SiO2在低表面活性剂下的制备及表征 (2002年)

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文件名称：有序介孔SiO2在低表面活性剂下的制备及表征 (2002年)
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更新时间：2021-05-18 20:08:25
自然科学 论文 论述了碱性介质条件下，采用低表面活性剂浓度，在表面活性剂与硅源的摩尔比仅为0.06∶1的条件下，利用表面活性剂与硅源水解后形成的聚集体相互作用，在溶液中形成分子自组装体，进而形成有序介孔SiO2材料。并对其进行HRTEM分析和小角度XRD分析，以及红外可见光谱FT-IR分析。研究表明：在低表面活性剂下，经分子自组装可形成排列有序的六方结构。水热条件下使分子的作用增强，介孔骨架中硅原子的聚集度提高。实验说明铝原子的引入取代部分硅原子导致晶格增大，并可使有序介孔结构保持完好。