锑化铟离子注入退火技术研究 (2013年)

时间:2024-06-11 07:47:05
【文件属性】:

文件名称:锑化铟离子注入退火技术研究 (2013年)

文件大小:390KB

文件格式:PDF

更新时间:2024-06-11 07:47:05

工程技术 论文

对锑化铟(InSb)铍离子(Be+)注入后的快速退火技术进行了研究,并对不同退火温度和时间的晶片进行了工艺实验,通过测试其PN结I-V特性,对比了不同快速退火条件对PN结特性的影响,确定在一定快速热退火条件下可以获得高质量的PN结,并对试验结果进行了分析。


网友评论