电解液组成对ZAlSi12Cu2Mg1微弧氧化陶瓷膜的影响 (2009年)

时间:2024-06-12 16:28:31
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文件名称:电解液组成对ZAlSi12Cu2Mg1微弧氧化陶瓷膜的影响 (2009年)

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更新时间:2024-06-12 16:28:31

工程技术 论文

采用电解液成分逐渐加入法,在6种电解液中对ZAlSi12Cu2Mg1试样进行微弧氧化处理,研究电解液组成对微弧氧化陶瓷膜形成的影响,寻找合适的电解液组成。结果表明:电解液组成对陶瓷膜层的厚度、粗糙度、硬度、耐磨性、膜层微观形貌及相组成的影响很大,通过调节电解液成分,可获得性能优良的陶瓷膜。适宜的电解液组成为:8g/LNaSiO3,1g/LNaOH,2g/LNa2WO4,0.5g/LNa2EDTA及10mL/L丙三醇。在此种电解液组成下,获得的陶瓷膜厚156μm,面粗糙度为259nm,显微硬度达HV891。


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