文件名称：铜电解液中砷的还原及脱除 (2011年)
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更新时间：2024-05-12 04:32:03
工程技术 论文
探讨了反应温度、H2SO4浓度、CuSO4浓度、反应时间、SO2气流量等因素对 SO2还原铜电解液中 As(Ⅴ) 的影响,并对浓缩共晶作用下铜电解液中As(III)的脱除行为进行了研究。研究表明: As(V)还原率随着反应温度 和H2SO4浓度的升高而降低,随着SO2气流量的增大及反应时间的延长而升高。当反应温度为65°C,H2SO4浓 度为203 g/L,CuSO4浓度为80g/L,SO2流量为200 mL/min,反 应时间为2 h时,铜 电解液中 As(Ⅴ)还原率为92%; 铜电解液中的 As(V)