文件名称：多晶铜膜纳米压入蠕变性能 (2004年)
文件大小：2.81MB
文件格式：PDF
更新时间：2024-05-30 02:39:51
工程技术 论文
在JGP560V磁控溅射镀膜设备上镀制多晶铜膜,利用纳米压入技术测量了其室温下的蠕变性能。结果表明：由于不同加载方式下,材料加工硬化程度的不同造成了应力指数的差异,因而,不同加载方式对测得的铜膜蠕变应力指数有比较大的影响;由于材料在高载荷时在压头下端产生更多的位错,阻碍了压头的压入,使蠕变率降低,因而,随着保载载荷的升高,蠕变应力指数变大。