文件名称：MFI型分子筛膜晶内孔道的在线CVD调变 (2013年)
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更新时间：2024-06-08 15:13:37
自然科学 论文
采用在线化学气相沉积(CVD)法对全硅MFI型分子筛膜进行晶内孔道修饰，考察晶间缺陷对膜晶内孔道修饰效果的影响。采用硅烷水解法对缺陷较多的膜进行缺陷孔的修补，结合扫描电子显微(SEM)，观察膜微结构的变化。结果表明：分子筛膜表面缺陷显著影响晶内孔道调变效果。500 ℃时，缺陷较少的膜经晶内修饰后 H2／CO2分离因子由修饰前的2．7提高到42．3，H2渗透性由2．25×10-7mol／(m2・s・Pa)降至1．52 × 10-7 mol／(m2・s・Pa)。经缺陷修补后的分子筛膜，其晶内修饰后的H：／C0