文件名称：残留溶剂对聚酰亚胺气体分离膜性能的影响 (2011年)
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更新时间：2024-07-01 10:48:09
自然科学 论文
以3,3',4,4'-二苯甲酮四酸二酐(BTDA)和2,4,6-三甲基-1,3-苯二胺(TMMPD)为单体,以N-甲基吡咯烷酮(NMP)为溶剂,通过低温缩聚-化学亚胺化法合成酮酐型聚酰亚胺(P(I BTDA-TMMPD) ) ;在303~423 K 温度下对制备的聚酰亚胺均质膜进行真空后处理,考察溶剂残留量变化及其对膜气体透过性能和分离性能影响.结果表明:经303~373 K真空热处理后,均质膜失重约占全部处理过程中总失重的80%.在373~ 423 K真空处理过程中,聚酰亚胺膜残留溶剂量变化趋于平稳;当