文件名称：倒锥形抗反射表面微结构的构筑 (2012年)
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更新时间：2024-05-19 01:06:15
自然科学 论文
利用Langmuir-Blodgett(LB)技术在单晶硅表面转移岛状硬脂酸单层膜图案,通过各向异性的湿法刻蚀构筑倒锥形表面微结构。倒锥形结构的深度及表面抗反射性能主要与刻蚀的时间有关。这种方法结合了自组装面积大和湿法刻蚀成本低的优点,是一种廉价、高效的制备大面积抗反射微结构的方法,在降低光学器件和太阳能电池的成本方面具有潜在应用价值。