Ⅲ-V族窄带隙掺Mn稀磁性半导体材料研究进展* (2007年)

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文件名称：Ⅲ-V族窄带隙掺Mn稀磁性半导体材料研究进展* (2007年)

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更新时间：2024-06-13 15:07:59

自然科学 论文

综述了目前国内外以As-基与Sb-基为基础的Ⅲ-V族窄带隙掺Mn稀磁性半导体材料的研究现状，系统地介绍了其生长方法与物理特性的研究进展，并指出其发展趋势与应用前景。