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文件名称：电位对天然黄铜矿表面膜层性质的影响 (2011年)
文件大小：749KB
文件格式：PDF
更新时间：2021-04-22 09:55:29
工程技术 论文
采用循环伏安(CV)、扫描电子显微镜(SEM)和电化学阻抗谱(EIS)研究黄铜矿在含有5×1 0-4 mol/L乙黄药 溶液中的电化学行为以及电位对黄铜矿表面膜层成分和性质的影响。结果表明:在开路电位(OCP)下,天然黄铜 矿表面发生黄药阴离子的吸附过程;在阳极电位范围-0.11～0.2 V内,主要发生黄药阴离子氧化形成疏水双黄药 膜层的电化学过程。形成的双黄药膜层在电位为0 V时具有较高覆盖度和较大的厚度,随着电位的增加表面双黄 药膜层的覆盖度和厚度减小。当电位高于0.2 V时,黄铜矿表面发生以自身活化