PS模板法制备铜纳米颗粒 (2013年)

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文件名称：PS模板法制备铜纳米颗粒 (2013年)
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更新时间：2021-05-31 11:38:10
工程技术 论文 采用双槽电化学腐蚀法制备多孔硅(porous silicon，PS)，对其进行超声后处理．以PS为模板采用一步浸渍沉积法制备大小均匀、形状规则的铜纳米颗粒，并研究沉积时间对纳米颗粒形状、尺寸的影响．结果表明：PS超声后处理并未造成其物理和化学结构的破坏，大量的硅氢键(SiHx)和蜂窝状多孔结构(直径150 nm左右)分别为纳米铜的形成和生长提供了还原剂和场所；沉积时间对铜纳米颗粒形貌具有重要影响，当沉积时间为40 s时得到形状和尺寸较为均匀的铜纳米颗粒．