2-甲基吡啶的槽内式间接电氧化 (2007年)

时间:2024-07-07 13:17:35
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文件名称:2-甲基吡啶的槽内式间接电氧化 (2007年)

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更新时间:2024-07-07 13:17:35

自然科学 论文

在质子交换膜为隔膜的电解槽内,以 2-甲基吡啶为原料,以 Cr2O2-7 /Cr3+ 为媒质,采用间接电氧化法研究了合成 2-吡啶甲酸的反应条件。实验结果表明,硫酸浓度、硫酸铬浓度、反应温度、2-甲基吡啶浓度和阳极电位对产率、转化率、选择性和电流效率均有影响。通过变化规律的研究,找到了各个影响因素的最佳条件为:硫酸浓度为 6.0 mol/L,反应温度为 60℃,硫酸铬浓度为 0.15 mol/L,2-甲基吡啶浓度为 0.1 mol /L,阳极电位为 1.50 V。


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