化学机械抛光中磨粒运动特性离散元仿真研究 (2011年)

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文件名称：化学机械抛光中磨粒运动特性离散元仿真研究 (2011年)

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更新时间：2024-05-11 11:26:44

工程技术 论文

基于耦合计算流体力学和计算散体力学的方法，利用PFC3D软件模拟了复合磨粒抛光液化学机械抛光(CMP)中抛光液固液两相流的流动行为。通过2个数值实验并将其与他人实验数据进行对比，验证了利用PFC3D软件模拟纳米两相流问题的可行性。对CMP过程进行了数值模拟，解释了一些实验中观测到的现象。