文件名称：VN/(Ti, A1)N纳米多层膜的共格生长与超硬效应 (2006年)
文件大小：362KB
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更新时间：2024-06-01 21:19:04
自然科学 论文
采用反应磁控溅射技术制备了一系列具有不同调制周期的VN/（Ti，A1）N纳米多层膜。利用高分辨透射电子显微镜、X-射线衍射仪和微力学探针表征了纳米多层膜的微结构和力学性能，从而研究其微结构与力学性能之间的关系。结果表明，小调制周期时，VN/（Ti，A1）N纳米多层膜沿薄膜生长方向呈现出具有面心立方（111）晶面择优取向的共格外延生长结构。由于存在晶格错配，在共格界面作用下，VN和（Ti，A1）N调制层分别受到拉、压应力，在多层膜中产生以调制周期为周期的交变应力场。这种应力场大大阻碍了薄膜中位错穿过界面的运