文件名称：AZ91D镁合金低压交流氧化成膜机制 (2011年)
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更新时间：2024-06-09 10:35:26
自然科学 论文
基于一种低的交流电压条件(10 V)，在NaOH和Na2SiO3的混合溶液体系中，对AZ91D镁合金进行电化学阳极氧化处理．利用扫描电镜(SEM)、X射线能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)、电化学测试技术等手段研究了AZ91D镁合金表面阳极氧化的成膜过程、膜层生长的特点以及氧化工艺参数对膜层性能的影响规律．试验结果表明：在10 V这样低的交流电压下，在镁合金表面获得的氧化膜层表面均匀，为无孔洞的平层状膜层，其生长过程呈叠加式特点；获得的氧化膜层的主要成分为Mg2SiO4；在质量分数为3．5％的NaC