固溶处理对AZ91D镁合金微弧氧化的影响 (2009年)

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文件名称：固溶处理对AZ91D镁合金微弧氧化的影响 (2009年)
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更新时间：2021-05-20 07:17:13
工程技术 论文 研究AZ91D镁合金的固溶处理对其微弧氧化成膜的影响。结果表明：固溶态基体由于成分分布均匀而能够迅速成膜并长大，且在相同的微弧化处理时间内其膜层厚度始终大于铸态基体上的膜层厚度，提高幅度约为40%；随反应时间的延长，膜层厚度逐渐增加，微弧氧化膜表面的喷射空洞和喷射沉积物呈现粗大化趋势，膜层表面粗糙度也随之增大；在微弧氧化反应初期，固溶态基体上膜层粗糙度较小；反应约100s后，固溶态基体膜层的粗糙度逐渐超过铸态基体膜层的粗糙度；当微弧氧化膜厚度相同时，固溶态基体上膜层的粗糙度始终小于铸态基体膜层的；微弧氧化