文件名称：聚异丙胺基环硼氮烷裂解制备氮化硼及其抗氧化与介电性能 (2011年)
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更新时间：2024-05-30 01:49:17
自然科学 论文
以异丙胺和三氯环硼氮烷(TCB)为原料,在较温和条件下合成了一种可溶可熔的聚异丙胺基环硼氮烷(PTPiAB),PTPiAB经高温裂解制得六方氮化硼(h-BN) 。利用元素分析、TGA、FTIR、XRD和网络分析仪等方法对先驱体及裂解产物的组成、结构和性能进行了表征。结果表明,PTPiAB的结构中含有B3N3六元环及N―H,C―H和C―N键,其熔点约为70℃。在1000℃NH3和Ar气氛中的陶瓷产率分别为45.9%和52.8%。在NH3气氛中裂解失重主要发生在800℃以下,1000℃左右开始结晶,1800℃