文件名称:论文研究-酸槽制程稳定性的优化方法 .pdf
文件大小:321KB
文件格式:PDF
更新时间:2022-09-04 10:31:10
选择比
酸槽制程稳定性的优化方法,郑利平,程秀兰,在传统的半导体工艺中,有源区的氮化硅去除过程采用的是磷酸,这种酸对二氧化硅与氮化硅的选择比在一个换酸周期内差异非常大,在
文件名称:论文研究-酸槽制程稳定性的优化方法 .pdf
文件大小:321KB
文件格式:PDF
更新时间:2022-09-04 10:31:10
选择比
酸槽制程稳定性的优化方法,郑利平,程秀兰,在传统的半导体工艺中,有源区的氮化硅去除过程采用的是磷酸,这种酸对二氧化硅与氮化硅的选择比在一个换酸周期内差异非常大,在